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所属 |
大学院理工学研究科 物質科学専攻 材料理工学コース |
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生年 |
1973年 |
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研究室住所 |
秋田市手形学園町１番１号 |
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ホームページ |
吉村 哲 (ヨシムラ サトル)
YOSHIMURA Satoru
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出身大学院 【 表示 ／ 非表示 】
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1999年10月-2002年03月
東北大学 工学研究科 電子工学専攻 博士後期課程 修了
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1998年04月-1999年09月
東北大学 工学研究科 電子工学専攻 博士前期課程 修了
職務経歴（学内） 【 表示 ／ 非表示 】
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2022年04月-継続中
秋田大学 大学院理工学研究科 物質科学専攻 材料理工学コース 教授
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2020年04月-継続中
秋田大学 大学院理工学研究科 附属革新材料研究センター センター長
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2019年04月-2022年03月
秋田大学 大学院理工学研究科 附属革新材料研究センター 教授
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2018年04月-2019年03月
秋田大学 大学院理工学研究科 附属革新材料研究センター 准教授
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2016年04月-2018年03月
秋田大学 大学院理工学研究科 附属理工学研究センター 准教授
職務経歴（学外） 【 表示 ／ 非表示 】
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2019年04月-継続中
インドＶＩＴ大学（非常勤教授） 非常勤講師
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2018年04月-2019年03月
名古屋大学（非常勤講師） 大学院工学研究科 非常勤講師
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2015年10月-2019年03月
科学技術振興機構 戦略的創造研究推進事業 さきがけ（兼任研究者） 戦略的創造研究推進事業 さきがけ 兼任研究者
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2007年04月-2008年03月
九州大学（助教） 大学院システム情報科学研究院 助教
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2005年07月-2007年03月
名古屋大学（助手） 大学院工学研究科 助手
学会（学術団体）・委員会 【 表示 ／ 非表示 】
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2021年04月-継続中
日本国
映像情報メディア学会（マルチメディアストレージ研究会 幹事）
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2019年04月-継続中
日本国
日本素材物性学会（常任幹事）
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2008年12月-継続中
日本国
応用物理学会
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2005年12月-継続中
日本国
日本金属学会
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1997年06月-継続中
日本国
日本磁気学会（編集委員会 ハード・ソフト材料分野 主査）
研究分野 【 表示 ／ 非表示 】
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ものづくり技術（機械・電気電子・化学工学） / 電気電子材料工学
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ものづくり技術（機械・電気電子・化学工学） / 電子デバイス、電子機器
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ナノテク・材料 / 薄膜、表面界面物性
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ナノテク・材料 / 構造材料、機能材料
研究経歴 【 表示 ／ 非表示 】
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規則原子配列を有する高機能材料の高品質作製およびそれらを用いた高性能磁性多層膜素子・デバイスの形成に関する研究
（選択しない）
研究期間：
2008年04月-継続中研究態様：個人研究
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垂直磁化薄膜を用いた不揮発固体メモリのハイブリッド記録に関する研究
（選択しない）
研究期間：
2007年04月-2008年03月研究態様：機関内共同研究
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高品質フルホイスラー合金膜の形成と強磁性トンネル磁気抵抗効果に関する研究
（選択しない）
研究期間：
2005年07月-2007年03月研究態様：機関内共同研究
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極薄金属膜の均質酸・窒化プロセスと強磁性トンネル磁気抵抗効果に関する研究
（選択しない）
研究期間：
2002年04月-2005年06月研究態様：機関内共同研究
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極薄高融点金属シード層によるCoCr基薄膜磁気記録媒体の結晶粒制御と低ノイズ化
（選択しない）
研究期間：
1998年04月-2002年03月研究態様：機関内共同研究
研究等業績 【 表示 ／ 非表示 】
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B. Dash, K. L. Routray, S. Saha, S. Yoshimura, S. Ratha, M. K. Rout
Transactions on Electrical and Electronic Materials ( Transactions on Electrical and Electronic Materials ) 2024年03月 [査読有り]
研究論文（学術雑誌） 国際共著
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Sunirmal Saha, Krutika Routray, Pritish. Hota, Biswajita Dash, Satoru Yoshimura, Soumyaranjan Ratha, and Traibhab Kumar Nayak
Journal of Molecular Structure ( Journal of Molecular Structure ) 1302 2024年03月 [査読有り]
研究論文（学術雑誌） 国際共著
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S. Ratha, G. Egawa, S. Yoshimura
Applied Surface Science ( Applied Surface Science ) 643 158704 2024年01月 [査読有り]
研究論文（学術雑誌） 国内共著
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α”-Fe<sub>16</sub>N<sub>2</sub>薄膜の高密度磁気記録媒体への応用に向けた反応性パルスDCスパッタリング成膜条件の検討および結晶化促進
勝山 郁子, 江川 元太, 吉村 哲
日本素材物性学会誌 ( 日本素材物性学会 ) advpub ( 0 ) 2024年01月 [査読有り]
研究論文（学術雑誌） 国内共著
<p>An α"-Fe<sub>16</sub>N<sub>2</sub> has very high magnetic crystalline anisotropy energy even if magnetic anisotropy field is not so large because of its very high saturation magnetization. Therefore, magnetization switching field of this material is smaller than that of L1<sub>0</sub>-FePt which has very high magnetic crystalline anisotropy energy due to having very high magnetic anisotropy field. As the results, α"-Fe<sub>16</sub>N<sub>2</sub> seems one of the suitable materials for next-generation high density magnetic recording media without energy assisted recording system. In this study, for fabrication of α"-Fe<sub>16</sub>N<sub>2</sub> thin fi lms, we newly attempted a pulsed DC（P-DC） reactive sputtering method, which is expected to provide high quality in the formation of oxide/nitride thin films with complex crystal structures. Since there have been no attempts to fabricate this thin fi lms with this method before, we investigated the influence of film properties （composition） on deposition parameters such as pulse frequency, deposition power, and target-substrate （T-S） distance, and fi nally optimized the deposition conditions to obtain the nitrogen concentration of Fe:N ＝ 16:2 in the film. As a result, with decreasing pulse frequency, with increasing deposition power, and with decreasing T-S distance, nitrogen concentration in the thin fi lm decreased, and it was clear that the optimized deposition conditions to obtain the nitrogen concentration of Fe:N ＝ 16:2 in the thin fi lm were pulse frequency: 25 kHz, deposition power: 200 W, and T-S distance: 100 mm, respectively. Using these deposition conditions, we investigated the deposition temperature and VHF plasma irradiation power to promote the α" phase formation and crystallization in the fabrication of Fe-N thin films on MgO（100） single crystalline substrates. As a result, it was found that α" phase formation and crystallization were most enhanced at a deposition temperature of 200 ℃ and a VHF plasma irradiation power of 3 W （<i>V</i><sub>dc</sub>: -18 to -16 V）. The usefulness of P-DC power source for fabrication of α"-Fe<sub>16</sub>N<sub>2</sub> thin fi lms was confi rmed by comparing to Fe-N thin fi lms fabricated by using a DC power source. As a result, reactive P-DC sputtering method was found to have a positive impact on α" phase formation and crystallization.</p>
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Biswajita Dash, Sunirmal Saha, Satoru Yoshimura, Soumyaranjan Ratha, and Jashashree Ray
Journal of Materials Science: Materials in Electronics ( Journal of Materials Science: Materials in Electronics ) 34 ( 36 ) 2023年12月 [査読有り]
研究論文（学術雑誌） 国際共著
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マルチメディアストレージの研究動向
町田賢司，加藤大典，吉村哲，武者敦史，文仙正俊
映像情報メディア学会誌 ( 一般社団法人映像情報メディア学会 ) 77 ( 3 ) 337 - 34 2023年05月
総説・解説（学術雑誌） 国内共著
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薄膜磁気記録媒体の微細構造制御技術
斉藤 伸, 吉村 哲
まぐね ( 日本磁気学会 ) 12 ( 4 ) 169 - 176 2017年08月 [査読有り]
総説・解説（その他） 国内共著
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強磁性強誘電薄膜における磁化方向の電圧制御と電界記録型磁気記録デバイスへの応用
吉村 哲
化学工業 ( 化学工業社 ) 67 ( 11 ) 68 - 73 2016年11月
総説・解説（学術雑誌） 単著
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薄膜磁気デバイスの高性能化に向けた新磁性材料開発・高品位薄膜作製技術
吉村 哲
化学工業 ( 化学工業社 ) 61 ( 7 ) 1 - 6 2010年07月
総説・解説（学術雑誌） 単著
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S. Ratha, R. Suzuki, D. Yamamoto, K. Takeda, M. Kuppan, G. Egawa, S. Yoshimura
2023 IEEE International Magnetic Conference - Short Papers, INTERMAG Short Papers 2023 - Proceedings ( 2023 IEEE International Magnetic Conference - Short Papers, INTERMAG Short Papers 2023 - Proceedings ) 2023年05月
研究論文（国際会議プロシーディングス） 国内共著
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Y. Suzuki, T. Ozeki, G. Egawa, and S. Yoshimura
2023 IEEE International Magnetic Conference - Short Papers, INTERMAG Short Papers 2023 - Proceedings ( 2023 IEEE International Magnetic Conference - Short Papers, INTERMAG Short Papers 2023 - Proceedings ) 2023年05月
研究論文（国際会議プロシーディングス） 国内共著
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Satoru Yoshimura, Genta Egawa
Proceedings - 2022 IET International Conference on Engineering Technologies and Applications, IET-ICETA 2022 ( IEEE ) 2022年12月 [査読有り]
研究論文（国際会議プロシーディングス） 国内共著
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Satoru Yoshimura
AIP Conference Proceedings ( AIP Conference Proceedings ) 2391 090001-1 - 090001-6 2022年03月 [査読有り] [招待有り]
研究論文（国際会議プロシーディングス） 単著
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High Functional Multiferroic Thin Films for Novel Magnetic Devices with System of Magnetization Reversal by Electric Field (Invited)
S. Yoshimura and M. Kuppan
Proceedings of International Workshop on Materials Technology and Applications 2018 IT2-9 - IT2-13 2018年10月 [招待有り]
研究論文（国際会議プロシーディングス） 国内共著
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常磁性グラニュラー薄膜の実現に向けた反応性パルスDCスパッタリング成膜法による非磁性酸・窒化物マトリックス用薄膜の作製
小林拓海、小野龍太郎、江川 元太、吉村 哲
映像情報メディア学会技術報告 47 2023年06月
研究論文（研究会，シンポジウム資料等） 国内共著
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強磁性・強誘電(Bi,La)(FeyM1-y)O3(M=Ni or Co or (Ni,Co))薄膜の磁気・誘電特性に及ぼすBサイトの置換元素および置換量の効果
鈴木悠太、尾関拓海、江川 元太、吉村 哲
映像情報メディア学会技術報告 47 2023年06月
研究論文（研究会，シンポジウム資料等） 国内共著
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BiFeO3薄膜における強磁性誘導のためのAサイトのアルカリ土類元素置換およびレーザーアシスト加熱成膜・後アニールの効果
鈴木 陸、尾関 拓海、江川 元太、吉村 哲
映像情報メディア学会技術報告 46 ( 16 ) 37 - 44 2022年06月
研究論文（研究会，シンポジウム資料等） 国内共著
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(Bi1-xBax)(Fe1-yCoy)O3強磁性・強誘電薄膜における飽和磁化・垂直磁気異方性・磁気Kerr効果に及ぼすCo置換量の影響とその起源に関する検討
尾関 拓海、江川 元太、吉村 哲
映像情報メディア学会技術報告 46 ( 16 ) 45 - 51 2022年06月
研究論文（研究会，シンポジウム資料等） 国内共著
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(Bi,La)(Fe1-xCox)O3強磁性・強誘電薄膜における垂直磁気異方性と磁気Kerr効果のCo置換量依存性
尾関 拓海、山本 大地、江川 元太、吉村 哲
映像情報メディア学会技術報告 45 ( 14 ) 29 - 34 2021年06月
研究論文（研究会，シンポジウム資料等） 国内共著
◆原著論文【 表示 ／ 非表示 】
◆総説・解説【 表示 ／ 非表示 】
◆国際会議プロシーディングス【 表示 ／ 非表示 】
◆研究会，シンポジウム資料等【 表示 ／ 非表示 】
産業財産権 【 表示 ／ 非表示 】
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磁気転写電荷誘起型磁界センサ
特許
特願 特願2024-
出願日： 2024年01月31日
吉村哲
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直流磁場測定方法および直流磁場測定装置、ならびに交流磁場測定方法および交流磁場測定装置
特許
特願 特願2022-129398
出願日： 2022年08月15日
齊藤準、吉村哲、松村透
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光変調素子、空間光変調器及び表示装置（特許第6741453号）
特許
審査請求有無：あり
特願 特願2016-69190 特許 特許第6741453号
出願日： 2016年03月31日
吉村哲，齊藤準，町田賢司，船橋信彦，加藤大典，金城秀和，麻生慎太郎，青島賢一，久我淳，菊池宏
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光変調素子、空間光変調器及び表示装置（特許第6741452号）
特許
審査請求有無：あり
特願 特願2016-69189 特許 特許第6741452号
出願日： 2016年03月31日
吉村哲，齊藤準，町田賢司，船橋信彦，加藤大典，金城秀和，青島賢一，麻生慎太郎，久我淳，菊池宏
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電界記録型磁気メモリ(特許第6573374号)
特許
審査請求有無：あり
特願 2015-126013 特許 特許第6573374号
出願日： 2015年06月23日
吉村哲，齊藤準
学術関係受賞 【 表示 ／ 非表示 】
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映像情報メディア学会マルチメディアストレージ研究会2023年度優学生奨励賞【鈴木悠太】
2024年01月31日 映像情報メディア学会マルチメディアストレージ研究会 強磁性・強誘電(Bi,La)(FeyM1-y)O3(M=Ni or Co or (Ni,Co))薄膜の磁気・誘電特性に及ぼすBサイトの置換元素および置換量の効果
受賞者： 鈴木悠太，尾関拓海，江川元太，吉村哲 -
Best Paper Award【Soumyaranjan Ratha】
2022年12月16日 KPR Institute of Engineering and Technology Improvement of Magnetic Properties in BiFeO3-based Multiferroic Thin Films for Devices Applications with Low Energy Consumptions
受賞者： Soumyaranjan Ratha, Takumi Ozeki, Riku Suzuki, Munusamy Kuppan, Genta Egawa, and Satoru Yoshimura -
Best Oral Presentation Award【Soumyaranjan Ratha】
2022年11月29日 IEEE Magnetics Society Enhancement of Magnetic Properties by Lanthanides Substitution in (Bi,L)(Fe,Co)O3 (L = La, Nd, Sm, Gd, Dy, Er) Multiferroic Thin films
受賞者： Soumyaranjan Ratha, Kotaro Takeda, Daichi Yamamoto, Genta Egawa, and Satoru Yoshimura -
令和3年度秋田大学教員活動評価優秀教員
2022年10月26日 秋田大学 令和3年度秋田大学教員活動評価優秀教員
受賞者： 吉村哲 -
2022 IET International Conference on Engineering Technologies and Applications (IET ICETA) The Third Place of Best Paper Competition
2022年10月15日 2022 IET International Conference on Engineering Technologies and Applications (IET ICETA) Observation of clear magnetization and polarization reversal by local electric field in BiFeO3-based multiferroic thin film with using metallic MFM tip with optimized magnetization
受賞者： Satoru Yoshimura, Genta Egawa
共同研究実施実績 【 表示 ／ 非表示 】
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強磁性強誘電材料の光デバイスへの応用
提供機関: 民間企業 国内共同研究
研究期間： 2015年07月 - 継続中
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強磁性強誘電材料の記録デバイスへの応用
提供機関: 民間企業 国内共同研究
研究期間： 2011年10月 - 継続中
学会等発表 【 表示 ／ 非表示 】
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Optimizing the Etching Conditions with Minimal Damage and High Rate for High Functional Magnetic Nano Device Application in BiFeO3-based Multiferroic Thin Films
Soumyaranjan Ratha, Genta Egawa, and Satoru Yoshimura
The 14th APCTP Workshop on Multiferroics (東京大学) 2023年10月 - 2023年10月 Asia Pacific Center for Theoretical Physics (APCTP)
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BiFeO3系強磁性・強誘電薄膜の磁気デバイス応用に向けた低ダメージなリアクティブイオンエッチング条件の検討
Soumyaranjan Ratha，江川元太，吉村哲
第47回日本磁気学会学術講演会 (大阪大学) 2023年09月 - 2023年09月 日本磁気学会
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Minimizing Magnetic Damage During Microfabrication through Optimal Etching Conditions in BiFeO3-based Thin Films
Soumyaranjan Ratha, Genta Egawa, and Satoru Yoshimura
The IEEE Around-The-Clock Around-The-Globe Magnetics Conference 2023 (AtC-AtG 2023) (オンライン開催) 2023年09月 - 2023年09月 IEEE
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Investigation of Etching Resistance and Suitable Etching Conditions for Microfabrication in BFO-based Multiferroic Thin Films toward Magnetic Nano Device Applications
Soumyaranjan Ratha, Genta Egawa, and Satoru Yoshimura
20th International Conference on Global Research and Education (Inter-Academia 2023) (浜松＋オンラインのハイブリッド開催) 2023年09月 - 2023年09月 Shizuoka University
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高飽和磁化・垂直磁化BiFeO3系強磁性・強誘電薄膜材料の探索 － 磁気特性に及ぼすFeサイトのCo, Ni置換効果 －
鈴木陸，尾関拓海，江川元太，吉村哲
第47回日本磁気学会学術講演会 (大阪大学) 2023年09月 - 2023年09月 日本磁気学会
担当授業科目（学内） 【 表示 ／ 非表示 】
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2021年04月-継続中
物質科学概論
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2018年04月-継続中
電磁気学
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2018年04月-継続中
電子材料学
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2011年04月-継続中
磁性薄膜工学
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2011年04月-継続中
薄膜材料物性学
担当経験のある授業科目(学外) 【 表示 ／ 非表示 】
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Solid State Magnetism（17時間）
インド・VIT大学（令和元年度 非常勤教授）
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Solid State Magnetism（1時間）
インド・VIT大学（令和３年度 非常勤教授）
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Solid State Magnetism（1時間）
インド・VIT大学（令和４年度 非常勤教授）
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高機能磁性薄膜特論（15時間）
名古屋大学大学院工学研究科（平成30年度 非常勤講師）
学内活動 【 表示 ／ 非表示 】
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2023年04月-2024年03月理工学研究科 物質科学科 材料理工学コース 副コース長（就職担当） (所属部局内委員会)
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2023年04月-2024年03月理工学研究科 学務委員会 委員 (所属部局内委員会)
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2022年04月-継続中地方創生センター 地域産業研究部門 運営委員会 委員 (全学委員会)
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2022年04月-継続中地方創生センター 地域産業研究部門 新素材・機能性材料開発事業 事業長 (全学委員会)
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2022年04月-継続中東北７大学次世代放射光利用推進会議検討部会 委員 (その他の主要活動)
学会・委員会等活動 【 表示 ／ 非表示 】
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映像情報メディア学会（マルチメディアストレージ研究会 幹事）
2021年04月-継続中マルチメディアストレージ研究会 幹事
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日本素材物性学会（常任幹事）
2020年04月-継続中常任幹事
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日本磁気学会（編集委員会 ハード・ソフト材料分野 主査）
2015年04月-継続中編集委員会分野主査
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日本磁気学会（編集委員会 ハード・ソフト材料分野 主査）
2015年04月-継続中論文賞内山賞審査委員
学外の社会活動（高大・地域連携等） 【 表示 ／ 非表示 】
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秋田県高エネルギー加速器技術研究会令和5年度第3回研究会(企画)
2023年12月-2025年03月 -
本多記念研究奨励賞受賞選考委員
本多記念会
2023年12月-2024年01月 -
あきたイノベーションフォーラム2023
2023年12月 -
令和5年度秋田大学高大接続教育フォーラム
2023年09月-2023年10月 -
日本素材物性学会令和5年度第1回研究会(企画)
2023年06月-2023年12月